Гексафторид вольфрама (WF6) – важнейший компонент при производстве микроэлектроники, где он незаменим для прецизионного нанесения тонкопленочных вольфрамовых покрытий на микросхемы. Эти слои отличаются исключительной устойчивостью к экстремальным температурам и коррозионным воздействиям, а также обладают превосходной электропроводностью. Соединение также играет ключевую роль в производстве сверхчистого вольфрама и нанесении защитных слоев с использованием передовых газофазных методов.
Освоение полного цикла производства
В настоящее время ведется активное проектирование первого в России высокотехнологичного участка для организации полного цикла получения WF6 – от стадии синтеза исходных веществ до строжайшего контроля качества готового продукта.
Успешное сотрудничество ведущих центров
Как пояснил генеральный директор АО «НИИ НПО «Луч» Павел Карболин, создание отечественного производства сверхчистого WF6 требует глубокой проработки полного технологического цикла с соблюдением самых современных норм безопасности труда и бережного отношения к окружающей среде. «Объединение усилий ведущих научных центров – Нижегородского государственного университета им. Н.И. Лобачевского (ННГУ), Института химии высокочистых веществ им. Г.Г. Девятых РАН, Томского государственного университета и инжиниринговой компании ООО «Ферри Ватт» – позволило разработать и создать уникальное оборудование для нового производства, – отметил Павел Карболин. – Успешно изготовлены лабораторная и опытная установки сорбционной очистки гексафторида вольфрама, а также опытная установка ректификационной очистки».
Гендиректор АО «НИИ НПО «Луч» также сообщил о значимом достижении: разработка и апробация высокоточных методик измерения газовых и металлических примесей в особо чистом WF6 успешно завершены. Реализация этого инновационного проекта станет прочной основой для технологического суверенитета России в сфере наукоемких материалов.
